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人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (1): 44-47.

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球磨法改善电学接触增强碳纳米管场发射性能

陈雷锋;宋航;蒋红;赵海峰;李志明;黎大兵   

  1. 中国科学院长春光学精密机械和物理研究所中国科学院激发态重点实验室,长春,130033;中国科学院研究生院,北京,100039;中国科学院长春光学精密机械和物理研究所中国科学院激发态重点实验室,长春,130033
  • 出版日期:2010-02-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(90406024,60571004)

Improvement Contact Resistance and Enhancement of Carbon Nanotube Electron Field Emission by Ball Milling Process

  • Online:2010-02-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文采用CNT与纳米银颗粒混合球磨的方法,改善了CNT与衬底电极的电学接触性能.并比较了球磨和电泳两种方法分别获得的CNT的场发射特性,结果表明:采用球磨法所获得的CNT场发射阴极的场发射性能远远优于电泳法.在球磨过程中,由于钢球、纳米银颗粒、CNT和衬底之间互相挤压,使CNT和银颗粒及衬底之间形成紧密牢固的接触,减少了界面的接触电阻,从而大大改善了界面的电学接触性能.而电泳沉积的CNT和衬底之间基本上是简单的物理附着力,接触电阻很大,而且由于这种作用力相对较弱,往往会导致发射体本身不稳定.球磨提供了一种改善电学接触的简单有效方法,并且适合于大规模生产CNT场发射冷阴极.

关键词: 碳纳米管;场发射;球磨;电泳;接触电阻

中图分类号: