人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (6): 1475-1478.
郭哲;刘保亭;王军;李曼;张金平;娄建忠
GUO Zhe;LIU Bao-ting;WANG Jun;LI Man;ZHANG Jin-ping;LOU Jian-zhong
摘要: 采用射频磁控溅射法结合高真空后退火处理,在MgO(001)单晶基片上制备了Pt薄膜.应用脉冲激光沉积法在Pt/MgO上进一步生长了Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜.借助X射线衍射仪(XRD)、铁电测试仪、LCR表研究了BST/Pt/MgO的结构和性能.研究发现,700 ℃真空退火可以保证Pt薄膜在MgO基片上实现(001)高度择优生长,以(001)Pt薄膜为模板,可以进一步获得(001)高度择优取向具有铁电性能BST薄膜.在100 Hz测试频率下,BST薄膜最大介电常数为1100、调谐率为81;、品质因数为21;在7 V的电压下,漏电流密度1.85×10-5 A/cm2,进一步分析表明,BST薄膜在0~2.6 V之间满足欧姆导电机制,在2.6~7 V之间满足普尔-弗兰克导电机制.
中图分类号: