直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用

人工晶体学报 ›› 2011, Vol. 40 ›› Issue (1): 75-82.

直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用

张湘辉;汪灵;龙剑平

成都理工大学材料与化学化工学院,成都,610059;成都理工大学金刚石薄膜实验室,成都,610059

出版日期:2011-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(50974025;40572030);四川省科技厅重点科技攻关项目(05GG021-001);四川省教育厅自然科学重点科研项目(2003A142);国家公益性行业科学专项经费课题(201011005-5);四川省教育厅自然科学项目(07ZB009)

Design and Application of Substrate Temperature Control System in DC Arc Discharge PCVD Diamond Films Device

ZHANG Xiang-hui;WANG Ling;LONG Jian-ping

Online:2011-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点,设计开发了基底自动控温系统.将该系统应用于金刚石薄膜的制备中,并采用SEM、Raman光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品质进行了表征.结果证明该系统具有较好的稳定性,其应用时所制备的金刚石薄膜的品质明显得到提高,具有广泛的应用前景.

中图分类号:

TP273

张湘辉;汪灵;龙剑平. 直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用[J]. 人工晶体学报, 2011, 40(1): 75-82.

ZHANG Xiang-hui;WANG Ling;LONG Jian-ping. Design and Application of Substrate Temperature Control System in DC Arc Discharge PCVD Diamond Films Device[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2011, 40(1): 75-82.

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直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用

Design and Application of Substrate Temperature Control System in DC Arc Discharge PCVD Diamond Films Device

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