离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究

人工晶体学报 ›› 2011, Vol. 40 ›› Issue (4): 838-842.

离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究

舒谊;周林;戴一帆;沈永祥;解旭辉;李圣怡

国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙,410073

出版日期:2011-08-15 发布日期:2021-01-20

Study on Surface Roughness of KDP Crystal in Ion Beam Figuring

SHU Yi;ZHOU Lin;DAI Yi-fan;SHEN Yong-xiang;XIE Xu-hui;LI Sheng-yi

Online:2011-08-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 为了避免传统加工过程对KDP( Potassium dihydrogen phosphate)晶体表面产生损伤、嵌入杂质等降低晶体抗激光损伤阈值的不利因素,文章探索采用离子束抛光技术实现KDP晶体的加工.本文主要分析了离子束抛光作用下KDP晶体表面粗糙度的演变过程,采用垂直入射和倾斜45°入射两种方式研究KDP晶体表面粗糙度,利用倾斜45°入射的加工方式提高了KDP晶体的表面质量,其表面均方根粗糙度值由初始的3.07 nm减小到了1.95 nm,实验结果验证了离子束抛光加工KDP晶体的可行性.

中图分类号:

TH161

舒谊;周林;戴一帆;沈永祥;解旭辉;李圣怡. 离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究[J]. 人工晶体学报, 2011, 40(4): 838-842.

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