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人工晶体学报 ›› 2011, Vol. 40 ›› Issue (6): 1387-1393.

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铝诱导纳米硅制备大晶粒多晶硅薄膜的研究

方茹;沈鸿烈;吴天如;刘斌;沈剑沧   

  1. 南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京,211106;南京大学物理学系固体微结构物理国家重点实验室,南京,210093
  • 出版日期:2011-12-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2006AA03Z219);江苏高校优势学科建设工程资助项目

Research on Preparation of Large Grain Size Polycrystalline Silicon Thin Films by Aluminum-induced Crystallization from Nanocrystalline Silicon

FANG Ru;SHEN Hong-lie;WU Tian-ru;LIU Bin;SHEN Jian-cang   

  • Online:2011-12-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文以超白玻璃为衬底,利用热丝化学气相沉积和磁控溅射法制备了Glass/nc-Si/Al的叠层结构,然后置于管式退火炉中在H2气氛下进行5h诱导晶化,用XRD、光学显微镜、扫描电镜和拉曼光谱对样品进行了表征.结果表明所有样品都是有(111)择优取向的多晶硅薄膜,在425℃诱导时,多晶硅晶粒尺寸最大达400 μm,但薄膜不连续;随着诱导温度升高到450℃,样品表面已形成了连续的多晶硅薄膜,但晶粒尺寸有所减小;475℃下诱导获得的最大晶粒尺寸约为200μm,此时多晶硅薄膜的结晶质量更好.还从动力学的角度分析了铝诱导纳米硅的晶化机理.

关键词: 大晶粒;多晶硅薄膜;铝诱导;纳米硅

中图分类号: