沉积氧压对Bi1.5ZnNb1.5O7薄膜的结构和介电特性的影响

人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (2): 448-451.

沉积氧压对Bi1.5ZnNb1.5O7薄膜的结构和介电特性的影响

张效华;辛凤;胡跃辉;杨丰;陈义川

景德镇陶瓷学院机械与电子工程学院,景德镇,333000

出版日期:2012-04-15 发布日期:2021-01-20

Influence of Deposition Oxygen Pressure on Structure and Dielectric Properties of Bi1.5 ZnNb1.5O7 Thin Films

ZHANG Xiao-hua;XIN Feng;HU Yue-hui;YANG Feng;CHEN Yi-chuan

Online:2012-04-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.507(BZN)陶瓷靶材,采用脉冲激光沉积法在Pt/SiO2/Si(100)基片上制备立方BZN薄膜.研究了沉积氧压的变化对薄膜的结晶性能,微观形貌以及介电性能的影响.结果表明:沉积的BZN薄膜都呈现出立方焦绿石单相结构,但是薄膜的取向随氧压变化而变化.当沉积氧压为10Pa时,薄膜的(222)晶面拥有最强的择优取向.随着氧压的升高,BZN薄膜的介电常数明显降低.在10 Pa氧压下沉积的BZN薄膜展示出介电可调特性为5; (500 kV/cm).

中图分类号:

TB303

张效华;辛凤;胡跃辉;杨丰;陈义川. 沉积氧压对Bi1.5ZnNb1.5O7薄膜的结构和介电特性的影响[J]. 人工晶体学报, 2012, 41(2): 448-451.

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