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人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (11): 2252-2257.

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ITO薄膜可见光区增透性能研究

李仁莹;王明;董国波;高方圆;唐芳;王玫;刁训刚   

  1. 北京航空航天大学物理科学与核能工程学院,北京,100191
  • 出版日期:2013-11-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家国际科技合作专项项目(2012DFG61930);北航第七届全国大学生创新创业训练计划项目(201310006077)

Study on the Antireflection Properties of ITO Thin Film in Visible Region

LI Ren-ying;WANG Ming;DONG Guo-bo;GAO Fang-yuan;TANG Fang;WANG Mei;DIAO Xun-gang   

  • Online:2013-11-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用MPS单极性脉冲磁控溅射法,在PMMA衬底上制备SiO2增透薄膜,通过改变溅射时间达到最优的增透效果.在此基础上,制备了不同溅射时间的ITO薄膜,系统研究了增透前后的可见光透过率、方块电阻和红外发射率的变化.实验结果表明,增透后薄膜可见光平均透光率提高大约6;,对于溅射时间小于60 min的ITO薄膜增透之后的平均透光率达到80;以上,同时薄膜的方块电阻以及红外发射率变化较小.

关键词: SiO2薄膜;增透;ITO薄膜

中图分类号: