Cu2O薄膜的电化学沉积和生长机理研究

人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (3): 452-455.

Cu2O薄膜的电化学沉积和生长机理研究

赵文燕;田传进;汪长安;谢志鹏;杨海滨;付乌有

景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院,景德镇333403;吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春130012;景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院,景德镇,333403;景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院,景德镇333403;清华大学材料科学与工程系,北京100084;吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130012

出版日期:2013-03-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
江西省景德镇市科技局基金(103037201);清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室开放课题基金;吉林大学超硬材料国家重点实验室开放课题基金(201313)

Study on the Growth Mechanism of Cu2O Films by Electrochemical Deposition

ZHAO Wen-yan;TIAN Chuan-jin;WANG Chang-an;XIE Zhi-peng;YANG Hai-bin;FU Wu-you

Online:2013-03-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用酸性醋酸铜体系,在透明导电玻璃(ITO)上恒电位沉积Cu2O薄膜,研究阴极还原Cu2O的电化学行为,利用X射线衍射(XRD)和场发射扫描电子显微镜(SEM)分析了Cu2O薄膜的微观结构和表面形貌,通过控制电沉积时间,研究Cu2O薄膜的表面形貌变化规律,讨论了Cu2O的生长机理.

中图分类号:

O484

赵文燕;田传进;汪长安;谢志鹏;杨海滨;付乌有. Cu2O薄膜的电化学沉积和生长机理研究[J]. 人工晶体学报, 2013, 42(3): 452-455.

ZHAO Wen-yan;TIAN Chuan-jin;WANG Chang-an;XIE Zhi-peng;YANG Hai-bin;FU Wu-you. Study on the Growth Mechanism of Cu2O Films by Electrochemical Deposition[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2013, 42(3): 452-455.

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