低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光

人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (6): 1026-1030.

低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光

朱杰;张志萌;马爽

同济大学物理科学与工程学院,上海,200092

出版日期:2013-06-15 发布日期:2021-01-20

Ultra-precision Polishing of YCOB Crystal with Low Subsurface Damage

ZHU Jie;ZHANG Zhi-meng;MA Shuang

Online:2013-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 通过选择合适的研磨剂、抛光垫以及抛光材料,采用机械抛光与CMP抛光相结合的方法对应用于高激光损伤阈值的薄膜基体材料YCOB晶体进行表面加工.通过优化研磨抛光工艺后得到超光滑晶体表面,样品表面在125μm×94μm的范围内粗糙度RMS值达到0.6 nm,同时具有非常低的亚表面损伤层,经过超声清洗和有机溶剂刻蚀后,在高倍显微镜下无明显划痕.

中图分类号:

TH161

朱杰;张志萌;马爽. 低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光[J]. 人工晶体学报, 2013, 42(6): 1026-1030.

ZHU Jie;ZHANG Zhi-meng;MA Shuang. Ultra-precision Polishing of YCOB Crystal with Low Subsurface Damage[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2013, 42(6): 1026-1030.

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低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光

Ultra-precision Polishing of YCOB Crystal with Low Subsurface Damage

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