金刚石膜表面氨等离子体处理研究

人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (8): 1526-1530.

金刚石膜表面氨等离子体处理研究

魏俊俊;黑立富;高旭辉;李成明

北京科技大学新材料技术研究院,北京,100083

出版日期:2013-08-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
中央高校基本科研业务费(FRF-TP-13-035A);国家自然科学基金(51272024);教育部博士点基金(20110006110011)

Ammonia Plasma Treatment on Diamond Film Surface

WEI Jun-jun;HEI Li-fu;GAO Xu-hui;LI Cheng-ming

Online:2013-08-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 本文尝试采用微波等离子体CVD技术,实现金刚石膜的制备以及金刚石膜表面的氨等离子体处理,实现氨基功能化修饰金刚石膜的制备.通过扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)以及水接触角等对氨等离子体处理前后的金刚石膜进行检测分析.结果表明,采用微波等离子体CVD技术,可以在金刚石膜表面植入氨基实现功能化修饰,从而提高金刚石膜表面活性.同时,金刚石膜的整体品质未出现显著变化.

中图分类号:

O646

魏俊俊;黑立富;高旭辉;李成明. 金刚石膜表面氨等离子体处理研究[J]. 人工晶体学报, 2013, 42(8): 1526-1530.

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