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人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (8): 1590-1594.

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掺锡氧化铟陶瓷靶材在直流磁控溅射过程中“结瘤”的形成与演化

侯俊峰;李志友;周科朝;孙本双;姜??   

  1. 中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙410083;国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心,石嘴山753000;中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心,石嘴山,753000
  • 出版日期:2013-08-15 发布日期:2021-01-20

Formation and Evolution of Nodules on the Sn-doped In2O3 Ceramic Target During DC Magnetron Sputtering

HOU Jun-feng;LI Zhi-you;ZHOU Ke-chao;SUN Ben-shuang;JIANG He   

  • Online:2013-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 以共沉淀ITO粉制备的陶瓷靶材为溅射靶,采用EDX、XRD、SEM研究了靶材在磁控溅射过程中“结瘤”的化学组分及物相组成,并对不同阶段“结瘤”的微观结构进行表征,探讨了“结瘤”的生长演化过程及形成机理.结果表明:“结瘤”与靶材基体具有相同的化学组成及物相结构,其生长演化分为锥状“结瘤”的形成及生长、锥顶外皮脱落、“结瘤”断裂、断面平滑、诱发新“结瘤”产生5个阶段.溅射过程中的“自溅射”效应使外来杂质颗粒和In2O3分解产生的InO在靶材表面形成的凸起逐渐长大并最终形成“结瘤”.

关键词: ITO靶材;结瘤;溅射;凸起

中图分类号: