欢迎访问《人工晶体学报》官方网站,今天是 分享到:

人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (9): 1802-1807.

• • 上一篇    下一篇

氧氩比及基底温度对脉冲磁控溅射Cu2O薄膜结构和光学性能的影响

自兴发;杨雯;杨培志;段良飞;张力元   

  1. 云南师范大学,可再生能源材料先进技术及制备教育部重点实验室,太阳能研究所,昆明650092;楚雄师范学院物理与电子科学系,楚雄675000;云南师范大学,可再生能源材料先进技术及制备教育部重点实验室,太阳能研究所,昆明650092
  • 出版日期:2013-09-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金联合资助基金项目(U1037604)

Effects of O2/Ar Ratio and Substrate Temperature on the Structure and Optical Properties of Cu2O Thin Films Deposited by Pulse Magnetron Sputtering

ZI Xing-fa;YANG Wen;YANG Pei-zhi;DUAN Liang-fei;ZHANG Li-yuan   

  • Online:2013-09-15 Published:2021-01-20

摘要: 利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下在石英玻璃基底上制备Cu2O薄膜,研究了O2和Ar流量比(O2/Ar)及基底湿度对沉积的Cu2O薄膜结构、表面形貌及光学性能的影响.结果表明:在O2/Ar为30∶80的气氛条件下,基底温度在室温(RT)和100℃时均可获得单相的Cu2O< 111>薄膜;薄膜表面致密、颗粒呈球状,粗糙度的均方根(RMS)值随基底温度增加而增大;薄膜的光谱吸收范围为300~ 650 nm,紫外区吸收较强,可见光区吸收强度较弱,吸收强度随基底温度的增加而增强,光学带隙(Eg)随基底温度的增加而减小.

关键词: 脉冲磁控溅射;Cu2O薄膜;氧氩比;基底温度;光学特性

中图分类号: