氧气流量对MPCVD制备微/纳米双层金刚石膜的影响

人工晶体学报 ›› 2014, Vol. 43 ›› Issue (10): 2630-2634.

氧气流量对MPCVD制备微/纳米双层金刚石膜的影响

刘聪;汪建华;吕琳;翁俊

武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073

出版日期:2014-10-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(11175137)

Influence of O2 Flow Rate on Micro-Nanocrystalline Dual Layer Diamond Films Prepared by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition

LIU Cong;WANG Jian-hua;LV Lin;WENG Jun

Online:2014-10-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 应用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以CH4/H2/Ar为主要气源,成功制备出了微/纳米双层金刚石膜.同时,在纳米膜层生长过程中,通过添加O2辅助气体,研究了不同O2流量对微/纳米金刚石膜生长的影响.结果表明,当O2流量在0 ～ 0.8 sccm范围时,所获得的金刚石膜仍为微/纳米两层膜结构;当氧气流量增加到1.2 sccm时,金刚石膜只有一层微米膜结构;而O2流量在0～ 1.2 sccm范围时,纳米层晶粒尺寸及品质与氧气流量成正比例关系.表明适量引入O2可以促进纳米层晶粒长大和提高膜品质.另外,当O2流量为0.8 sccm,所制备的微/纳米金刚石膜不仅品质好,而且生长率也较高.

中图分类号:

O484

刘聪;汪建华;吕琳;翁俊. 氧气流量对MPCVD制备微/纳米双层金刚石膜的影响[J]. 人工晶体学报, 2014, 43(10): 2630-2634.

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