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人工晶体学报 ›› 2014, Vol. 43 ›› Issue (5): 1105-1109.

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磁控溅射PbSe薄膜厚度对其结构及光学特性的影响

王晓阳;冯文然;周海;姚静;李健   

  1. 北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029;北京石油化工学院材料科学与工程学院,北京,102617
  • 出版日期:2014-05-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    北京市自然科学基金(1112011)

Effect of Thickness on Structure and Optical Properties of PbSe Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering

WANG Xiao-yang;FENG Wen-ran;ZHOU Hai;YAO Jing;LI Jian   

  • Online:2014-05-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文利用射频磁控溅射法在200℃的玻璃衬底上沉积了纳米晶PbSe薄膜,薄膜厚度分别为200 nm、250 nm、500 nm及600 nm.利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)及紫外-可见分光光度计,分别研究了不同厚度PbSe薄膜的晶体结构、表面形貌和光学特性.结果表明:随膜厚增大,PbSe (200)晶面的择优取向显著增强,薄膜的结晶质量逐渐提高.此外,随薄膜厚度增加吸收边发生红移.膜厚为200nm、250 nm时,薄膜的禁带宽度为1.89 eV和1.60 eV;膜厚较大(500 nm及600 nm)时,带隙宽度减小至1.41 eV和1.34 eV,与太阳的光谱辐射更加匹配.因此,我们认为厚度较大的PbSe薄膜更适于用做太阳能电池的吸收层.

关键词: PbSe薄膜;磁控溅射;膜厚;光学性能

中图分类号: