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人工晶体学报 ›› 2014, Vol. 43 ›› Issue (6): 1460-1464.

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维生素B6在修饰掺硼金刚石薄膜电极上的测定

张胜男;朱宁;陈凯玉;张瑜   

  1. 天津理工大学电子信息工程学院,天津市薄膜电子与通信器件重点实验室,天津300384
  • 出版日期:2014-06-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(50972105);天津市重大科技攻关资助项目(06YFGZSH00300)

Determination of Vitamin B6 Based on Modified Boron-doped Diamond Thin Film Electrode

ZHANG Sheng-nan;ZHU Ning;CHEN Kai-yu;ZHANG Yu   

  • Online:2014-06-15 Published:2021-01-20

摘要: 用直流等离子体喷射化学气相沉积法制备掺硼金刚石(BDD)薄膜,通过扫描电子显微镜表征薄膜的表面形貌.对比维生素B12、氨基黑10B和亚甲基蓝三种物质修饰BDD电极,选择电催化氧化能力最强的氨基黑10B修饰的BDD电极作为检测电极,其氧化峰电流与维生素B6浓度的对数在1.0×10-10~1.0×10-4mol/L范围内呈良好的线性关系,且检测限为1.0×10-11 mol/L.该修饰电极可用于片剂中维生素B6含量的检测.

关键词: 掺硼金刚石薄膜;循环伏安法;维生素B6;电催化氧化

中图分类号: