硒化锌的化学机械抛光研究

人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (1): 61-65.

硒化锌的化学机械抛光研究

吴传超;安永泉;王志斌;杨常青;张瑞

山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原,030051;山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051;中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室,太原030051

出版日期:2015-01-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国际科技合作项目(2013DFR10150)

Study on the Chemical Mechanical Polishing of ZnSe

WU Chuan-chao;AN Yong-quan;WANG Zhi-bin;YANG Chang-qing;ZHANG Rui

Online:2015-01-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用化学机械抛光(CMP)的方法,自制抛光液作为研磨介质,对(50×50×1.5)mm3硒化锌(ZnSe)晶片抛光.通过分析抛光液的pH值、抛光盘转速、抛光液的磨料浓度、压力、抛光时间和抛光液流量等参数对CMP的影响,组合出最佳工艺参数,并通过原子力显微镜和平晶测试方法对最佳工艺参数获得的ZnSe晶片进行测试,实验结果显示,ZnSe晶片抛光后的表面粗糙度Ra为0.578 nm,平面面形误差小于1.8 μm.

中图分类号:

O786

吴传超;安永泉;王志斌;杨常青;张瑞. 硒化锌的化学机械抛光研究[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(1): 61-65.

WU Chuan-chao;AN Yong-quan;WANG Zhi-bin;YANG Chang-qing;ZHANG Rui. Study on the Chemical Mechanical Polishing of ZnSe[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2015, 44(1): 61-65.

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