激光烧蚀硅靶下荷电粒子和纳米晶粒的电流响应研究

人工晶体学报 ›› 2016, Vol. 45 ›› Issue (7): 1736-1740.

激光烧蚀硅靶下荷电粒子和纳米晶粒的电流响应研究

褚立志;于燕超;邓泽超;丁学成;赵红东;王英龙

河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北工业大学信息工程学院,天津,300401

出版日期:2016-07-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
河北省自然科学基金(A2015201166);国家级大学生创新创业训练计划项目(201410075034);河北省光电信息材料重点实验室资助课题

Study on Current Response of Charged Particles and Nanocrystalline Grains Produced by Laser Ablation of Silicon

CHU Li-zhi;YU Yan-chao;DENG Ze-chao;DING Xue-cheng;ZHAO Hong-dong;WANG Ying-long

Online:2016-07-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用波长为308 nm的XeCl脉冲准分子激光器,在5～50 Pa的Ar气压下烧蚀高阻抗单晶硅(Si)靶.在烧蚀点正前方、距靶1.5 cm处放置一个中心开孔直径为2 mm的挡板,挡板后面上下对称放置两个极板,然后串联一个标准电阻接地,电阻大小为10 Ω,利用高分辨数字存储示波器记录并测量回路中产生的瞬间电流来研究荷电粒子和纳米晶粒的电流响应.实验结果表明烧蚀产物中的正离子在气压为5 Pa时到达极板上数量最多.纳米Si晶粒带正电并且随着气压的增加纳米Si晶粒下落到极板的数量呈现先增大后减小趋势,在气压为8 Pa时达到最大值,这与扫描电子显微镜的测量结果基本一致.所得结果为进一步研究烧蚀粒子在环境气体中的输运动力学过程提供了依据.

中图分类号:

褚立志;于燕超;邓泽超;丁学成;赵红东;王英龙. 激光烧蚀硅靶下荷电粒子和纳米晶粒的电流响应研究[J]. 人工晶体学报, 2016, 45(7): 1736-1740.

CHU Li-zhi;YU Yan-chao;DENG Ze-chao;DING Xue-cheng;ZHAO Hong-dong;WANG Ying-long. Study on Current Response of Charged Particles and Nanocrystalline Grains Produced by Laser Ablation of Silicon[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2016, 45(7): 1736-1740.

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