影响LYSO∶ Ce晶体余辉强度的几个主要因素

人工晶体学报 ›› 2016, Vol. 45 ›› Issue (7): 1787-1790.

影响LYSO∶ Ce晶体余辉强度的几个主要因素

张彤;刘明哲;刘彦韬;杨明洁;章志明

成都理工大学,成都610059;中国科学院高能物理研究所,北京100049;成都理工大学,成都,610059;中国科学院高能物理研究所,北京,100049

出版日期:2016-07-15 发布日期:2021-01-20

Several Main Influencing Factors of the LYSO∶ Ce Afterglow

ZHANG Tong;LIU Ming-zhe;LIU Yan-tao;YANG Ming-jie;ZHANG Zhi-ming

Online:2016-07-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 探究了LYSO∶ Ce晶体的余辉现象,以及在不同曝光时间、光照强度下,余辉计数率随时间的变化规律.同时探究了温度对晶体余辉强度的影响,发现加热晶体可以快速缩短余辉持续时间,这一发现为日常的晶体检测和应用带来一定便利.

中图分类号:

张彤;刘明哲;刘彦韬;杨明洁;章志明. 影响LYSO∶ Ce晶体余辉强度的几个主要因素[J]. 人工晶体学报, 2016, 45(7): 1787-1790.

ZHANG Tong;LIU Ming-zhe;LIU Yan-tao;YANG Ming-jie;ZHANG Zhi-ming. Several Main Influencing Factors of the LYSO∶ Ce Afterglow[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2016, 45(7): 1787-1790.

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