[1] |
安康, 许光宇, 吴海平, 张亚琛, 张永康, 李利军, 李鸿, 张旭芳, 刘峰斌, 李成明. 金刚石化学机械抛光研究进展[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(10): 1675-1687. |
[2] |
李阳, 曹昆, 介万奇. 热处理GaSb衬底对近距离升华法制备CdZnTe外延膜的影响[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(10): 1705-1711. |
[3] |
陈峰武, 吕文利, 龚欣, 薛勇, 巩小亮. 分子束外延设备国内外进展及展望[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(9): 1494-1503. |
[4] |
吴蕊, 胡洋, 唐荣芬, 阳倩, 王序, 吴怡逸, 聂登攀, 王环江. MOCVD生长ZnO薄膜的气相寄生反应路径研究[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(9): 1608-1619. |
[5] |
钟琼丽, 王绪, 马奎, 杨发顺. Al掺杂对β-Ga2O3薄膜光学性质的影响研究[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(8): 1352-1360. |
[6] |
谢贵久, 张文斌, 王岩, 宋振, 张兵. 碳化硅晶片减薄工艺对表面损伤的影响[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(6): 967-972. |
[7] |
初学峰, 黄林茂, 张祺, 谢意含, 胡小军. 铟锡氧(ITO)和氟锡氧(FTO)透明导电薄膜的表征与分析[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(5): 848-854. |
[8] |
康杰, 丁紫阳, 王晓燕, 李连荣, 孙为云, 焦璨, 宋月鹏. 腐蚀法制备SiC量子点粒径调控及尺寸对其光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(4): 684-691. |
[9] |
鲁雪松, 王万堂, 王蓉, 杨德仁, 皮孝东. 半导体碳化硅衬底的湿法氧化[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(2): 181-193. |
[10] |
李传皓, 李忠辉, 彭大青, 张东国, 杨乾坤, 罗伟科. 大尺寸GaN微波材料范德瓦耳斯外延机理及应力调控研究[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(2): 252-257. |
[11] |
马玉麟, 郭祥, 丁召. GaAsBi半导体材料的制备及应用研究进展[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(1): 25-37. |
[12] |
赵小玻, 韦中华, 张旭, 钱纁, 于浩海. 化学气相沉积ZnS、ZnSe研究进展[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(12): 2125-2134. |
[13] |
王黎光, 芮阳, 盛旺, 马吟霜, 马成, 陈炜南, 邹啟鹏, 杜朋轩, 黄柳青, 罗学涛. 横向磁场下坩埚转速对半导体级直拉单晶硅熔体中流场与氧浓度的影响机制[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(9): 1641-1650. |
[14] |
聂凡, 韩硕, 曾冬梅. 双轴应变对单层CdZnTe电子特性和光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(8): 1394-1399. |
[15] |
陈根强, 赵浠翔, 于众成, 李政, 魏强, 林芳, 王宏兴. 异质外延单晶金刚石及其相关电子器件的研究进展[J]. 人工晶体学报, 2023, 52(6): 931-944. |