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人工晶体学报 ›› 2018, Vol. 47 ›› Issue (9): 1747-1751.

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溅射功率对硫化镉薄膜结构和光电性能的影响

杨恢东;王菁;张翠媛;夏锦辉;李俊魁;谢泳伦;常晨;周铉池;温俊文   

  1. 暨南大学信息科学技术学院,广州 510632;暨南大学韶关研究院,韶关 512027;暨南大学信息科学技术学院,广州,510632
  • 出版日期:2018-09-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    广东大学生科技创新培育专项资金(pdjh2017b0056);广东省省级科技计划项目(2014A010106014);暨南大学韶关研究院新型研发机构初创期建设补助项目(2016B090919014);国家级大学生创新创业训练计划(201710559014)

Effect of Sputter Power on Structural and Photoelectric Properties of Cadmium Sulfide Films

YANG Hui-dong;WANG Jing;ZHANG Cui-yuan;XIA Jin-hui;LI Jun-kui;XIE Yong-lun;CHANG Chen;ZHOU Xuan-chi;WEN Jun-wen   

  • Online:2018-09-15 Published:2021-01-20

摘要: 在玻璃衬底上采用射频磁控溅射方法制备了硫化镉(CdS)薄膜,研究了溅射功率对CdS薄膜的结构、表面形貌、光学特性和电学性质的影响.XRD测量表明制备的CdS薄膜均为六方纤锌矿结构的多晶薄膜.随着功率从40 W增加到80 W,H(102)面的峰呈现增强再逐渐减弱的趋势.60 W时薄膜的衍射峰最强,结晶度最好.同时,薄膜的晶粒尺寸随着功率增加先增大再减小.从SEM图像可以看出,制备的薄膜均匀致密且无针孔的出现.在可见光范围内,薄膜的平均透射率都在70;以上.随着功率的增加,薄膜带隙在2.25~2.41 eV的范围内变化,而暗电导率呈现先增加再减少的趋势.

关键词: 硫化镉薄膜;射频磁控溅射;溅射功率;光电性能

中图分类号: