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人工晶体学报 ›› 1998, Vol. 27 ›› Issue (1): 94-99.

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离心倾液法与初晶Si的生长

王渠东;于文江;金俊泽   

  1. 上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030;大连理工大学铸造工程研究中心,大连,116024
  • 出版日期:1998-01-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(59471051)

Decantation during Centrifugal Casting and the Growth of Primarg Silicon

Wang Qudong;Yung Wenjiang;Jin Junze   

  • Online:1998-01-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文首次提出了一种研究晶体生长的新方法--离心倾液法.用该方法获得了过共晶Al-Si合金初晶的Si的生长形貌,发现了初晶Si存在位错台阶生长机制,并且,借助该生长机制成功地解释了初晶Si的分枝和初晶Si包裹共晶组织的形成机理.此外,观察到了共晶体包裹初晶Si生长的过程.

关键词: 离心倾液法;固-液界面;初晶Si;台阶生长

中图分类号: