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人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (1): 29-32.

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铜掺杂类金刚石纳米点阵列的制备及场发射性能研究

崇二敏;李晓春;李春;闫鹏勋;张鹏举;刘洋;范晓彦   

  1. 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州,730000
  • 出版日期:2008-02-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(60376039)

Research on the Preparation of Cu-doped Diamond-like Carbon Nanodot Arrays and Their Excellent Field Emitting Properties

CHONG Er-min;LI Xiao-chun;LI Chun;YAN Peng-xun;ZHANG Peng-ju;LIU Yang;FAN Xiao-yan   

  • Online:2008-02-15 Published:2021-01-20

摘要: 利用磁过滤等离子体结合氧化铝模板(AA0)技术在室温下制备了具有优异场发射性能的铜掺杂类金刚石(DLC)纳米点阵列.微观分析表明,铜掺杂类金刚石纳米点阵列分布均匀,密度高达109cm-2;利用X射线光电子能谱对制备的铜掺杂类金刚石纳米点阵列进行结构分析,测得铜的掺杂量为3.6;且sp3键含量高达60;;通过对铜掺杂类金刚石纳米点阵列的场发射性能测试,试验结果表明,铜掺杂类金刚石纳米点阵列开启电场和阈值电场分别为0.08V/μm,0.42V/μm,并且在电场值为0.67V/μm时,发射电流密度高达95mA/cm2,场发射性能明显优于无掺杂类金刚石纳米点阵列.

关键词: 磁过滤等离子体;铜掺杂类金刚石纳米点阵列;氧化铝模板;场致发射

中图分类号: