摘要： 本文采用新型的自行研制的化学机械抛光液,对碲锌镉晶体进行了化学机械抛光方法的尝试性试验,并分析了在化学机械抛光(CMP)过程中抛光垫的硬度、磨料的种类、氧化剂、抛光液的pH值对表面质量和材料去除率的影响,提出适合软脆功能晶体碲锌镉的高效低损伤抛光工艺.结果表明,采用自行研制的带有硝酸的化学机械抛光液,在pH优化值为2.5时,15 min即可获得Ra为0.67 nm的超光滑无损伤表面,大大提高了加工效率和精度.
中图分类号:
李岩;康仁科;高航;吴东江;王可. 碲锌镉晶体高效低损伤CMP工艺研究[J]. 人工晶体学报, 2009, 38(2): 416-421.
LI Yan;KANG Ren-ke;GAO Hang;WU Dong-jiang;WANG Ke. High-efficiency and Low-damage Chemical Mechanical Polishing Process of CdZnTe Crystals[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2009, 38(2): 416-421.
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