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人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (1): 135-138.

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沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响

王宽冒;张沧生;李曼;周阳;王玉强;王侠;彭英才;刘保亭   

  1. 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学计算中心,保定,071002;河北大学电子信息工程学院,保定,071002
  • 出版日期:2010-02-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(60876055);河北省自然科学基金项目(E2008000620);教育部科学技术研究重点项目(207013);河北省应用基础研究计划重点基础研究项目(08965124D)

Effect of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of SrRuO_3 Films Fabricated by Magnetron Sputtering

  • Online:2010-02-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用射频磁控溅射法在(001)SrTiO_3基片上制备了SrRuO_3薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等分析方法系统研究了沉积温度对SrRuO_3薄膜结构、表面形貌及输运性质的影响.实验结果表明:当生长温度低于550 ℃时,SrRuO_3薄膜为多晶结构;当温度在550~650 ℃范围内变化时,SrRuO_3薄膜可以在SrTiO_3基片上外延生长,薄膜的最低电阻率约为0.5 mΩ·cm.

关键词: SrRuO_3;磁控溅射;外延薄膜

中图分类号: