温梯法生长的Ti:Al2O3晶体的光谱分析

人工晶体学报 ›› 2005, Vol. 34 ›› Issue (4): 657-660.

温梯法生长的Ti:Al2O3晶体的光谱分析

章佶;孙真荣;王祖赓;司继良;王静雅;杭寅;徐军

华东师范大学物理系,光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海,200062;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

出版日期:2005-08-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(60478024)

Spectral Analysis of Ti:Al2O3 Crystal Grown by Temperature Gradient Technique

ZHANG Ji;Sun Zhen-Rong;WANG ZU-GENG;SI Ji-liang;WANG Jing-ya;HANG Yin;XU Jun

Online:2005-08-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 本文研究了不同掺Ti3+浓度对温梯法生长的Ti:Al2O3晶体吸收光谱、荧光光谱和X射线衍射光谱的影响.根据吸收光谱提出了一个色心模型.对比了样品各处420nm荧光谱,发现掺Ti3+浓度越大,该处荧光强度越弱,同时解释了420nm处荧光峰的起源.对比了样品各处720nm处的荧光谱,发现掺Ti3+浓度越大,该处荧光强度越强.X射线衍射谱(XRD)表明,衍射峰强度随掺Ti3+浓度的增大而逐渐增强.

中图分类号:

O782

章佶;孙真荣;王祖赓;司继良;王静雅;杭寅;徐军. 温梯法生长的Ti:Al2O3晶体的光谱分析[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(4): 657-660.

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