基于朗缪尔探针的硅离子空间分布特性及纳米晶粒生长过程研究

人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (12): 2686-2690.

基于朗缪尔探针的硅离子空间分布特性及纳米晶粒生长过程研究

邓泽超;刘海燕;张晓龙;褚立志;丁学成;秦爱丽;王英龙

河北大学物理科学与技术学院,河北省光电信息材料重点实验室,保定071002;河北大学工商学院,保定,071002

发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家重点基础研究发展计划(973计划)前期专项基金(2011CB612305);河北省自然科学基金(E2011201134,E2012201035);河北省高等学校科学研究项目(Q2012084)

Growth Process of Si Nanoparticles and Spatial Distribution of Si Ions Based on Langmuir Probe Diagnosis

DENG Ze-chao;LIU Hai-yan;ZHANG Xiao-long;CHU Li-zhi;DING Xue-cheng;QIN Ai-li;WANG Ying-long

Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 在室温、10 Pa氩气环境气体中,采用脉冲激光烧蚀技术,在以烧蚀点为圆心、半径为2 cm的玻璃弧形支架的不同角度处放置衬底,沉积了纳米Si晶薄膜.通过扫描电子显微镜、拉曼散射仪对制备样品的形貌和特性进行分析.结果表明:纳米Si晶粒以羽辉轴线为轴呈对称分布,在轴线处平均尺寸最大,随着衬底同轴线夹角的增加,晶粒尺寸逐渐减小.结合朗缪尔探针对空间不同位置羽辉中Si离子密度和热运动温度分布的诊断情况,从晶粒生长过程的角度对其尺寸随空间位置变化的结果进行了研究,得到了晶粒尺寸正比于烧蚀粒子密度和热运动温度的结论.

中图分类号:

TN304

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