金刚石薄膜低压气相生长条件的理论预测

人工晶体学报 ›› 1998, Vol. 27 ›› Issue (2): 109-113.

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金刚石薄膜低压气相生长条件的理论预测

万永中;张卫;刘志杰;王季陶

复旦大学电子工程系,上海,200433

出版日期:1998-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
中国科学院资助项目;新材料领域项目

Theoretical Predication on Vapor Growth Conditions of Low Pressure Diamond Films

Wan Yongzhong;Zhang Wei;Liu Zhijie;Wang Jitao

Online:1998-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 基于非平衡热力学耦合模型计算得到三元体系中生长金刚石的等温、等压及竖直截面相图.这些相图中的金刚石生长区的形状和大小随温度、压力及氧含量等条件的改变而变化.高温时,金刚石生长区变小直至消失;中等温度时生长区最大;低温时又变小.压力的升高促使金刚石生长区变大.氧的加入总是引起需要更多的碳并使金刚石生长区向温度降低的方向移动.

中图分类号:

万永中;张卫;刘志杰;王季陶. 金刚石薄膜低压气相生长条件的理论预测[J]. 人工晶体学报, 1998, 27(2): 109-113.

Wan Yongzhong;Zhang Wei;Liu Zhijie;Wang Jitao. Theoretical Predication on Vapor Growth Conditions of Low Pressure Diamond Films[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 1998, 27(2): 109-113.

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