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人工晶体学报 ›› 2006, Vol. 35 ›› Issue (1): 99-103.
王占银;孔勇发;陈绍林;许京军
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RSS出版日期:2006-02-15
发布日期:2021-01-20
WANG Zhan-yin;KONG Yong-fa;CHEN Shao-lin;XU Jing-jun
Online:2006-02-15
Published:2021-01-20
摘要： 本文采用化学机械抛光方法,以SiO2作为抛光液的研磨介质,对76mm Z切向的铌酸锂晶片的抛光进行了深入的研究.分析了影响铌酸锂晶片抛光效果的因素,通过优化工艺参数,使铌酸锂的表面粗糙度Ra达到0.387nm,平面面形误差小于4μm.
中图分类号:
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