沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响

人工晶体学报 ›› 2006, Vol. 35 ›› Issue (2): 276-279.

沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响

刘保亭;武德起;闫正;乔晓东;赵庆勋;王英龙

河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

出版日期:2006-04-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
中国科学院资助项目(50572021);人事部留学回国人员科技活动择优基金;河北省自然科学基金(E2005000130);河北大学校科研和校改项目(B0406030)

Impacts of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of LaNiO3 Films

LIU Bao-ting;WU De-qi;YAN Zheng;QIAO Xiao-dong;ZHAO Qing-xun;WANG Ying-long

Online:2006-04-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用磁控溅射法在(001)SrTiO3 基片上制备了LaNiO3氧化物薄膜,应用X射线衍射(XRD)、反射式高能电子衍射(RHEED)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等技术系统研究了沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响.结果表明在较低的生长温度和较宽的温度范围内(250～400℃)都能得到外延LaNiO3薄膜.输运性质的测量结果表明在其它条件不变的情况下,250℃温度下生长的LaNiO3薄膜具有最高的电导率.

中图分类号:

TN386

刘保亭;武德起;闫正;乔晓东;赵庆勋;王英龙. 沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2006, 35(2): 276-279.

LIU Bao-ting;WU De-qi;YAN Zheng;QIAO Xiao-dong;ZHAO Qing-xun;WANG Ying-long. Impacts of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of LaNiO3 Films[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2006, 35(2): 276-279.

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