LiB3O5晶体946nm,473nm倍频增透膜的研制

人工晶体学报 ›› 2006, Vol. 35 ›› Issue (5): 917-921.

LiB3O5晶体946nm,473nm倍频增透膜的研制

于爱芳;范飞镝;刘中星;朱镛;陈创天

中国科学院理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080;中国科学院研究生院,北京,100039;中国科学院理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080

出版日期:2006-10-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA311050)

Study and Manufacture of Frequency Doubling Antireflection Coating at 946nm and 473nm for LiB3O5 Crystal

YU Ai-fang;FAN Fei-di;LIU Zhong-xing;ZHU Yong;CHEN Chuang-tian

Online:2006-10-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用离子辅助沉积技术在LiB3O5晶体上制备了946nm,473nm倍频增透膜,并测量了薄膜的性质.测试结果表明, 该增透膜具有较低的剩余反射、高的环境稳定性和良好的附着力.进一步测量了薄膜在波长1064nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步的探讨.此工艺下镀制的LiB3O5晶体用于瓦级全固态蓝光激光器,获得了3.8W波长为473nm的连续蓝光输出.

中图分类号:

于爱芳;范飞镝;刘中星;朱镛;陈创天. LiB3O5晶体946nm,473nm倍频增透膜的研制[J]. 人工晶体学报, 2006, 35(5): 917-921.

YU Ai-fang;FAN Fei-di;LIU Zhong-xing;ZHU Yong;CHEN Chuang-tian. Study and Manufacture of Frequency Doubling Antireflection Coating at 946nm and 473nm for LiB3O5 Crystal[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2006, 35(5): 917-921.

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