摘要: 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在1.1 m×1.3m的大面积玻璃衬底上制备非晶硅锗(a-SiGe)薄膜和太阳能电池.系统研究了锗烷流量比(RGe)、氢气流量比(RH)、沉积功率和压强对a-SiGe薄膜光学带隙以及沉积速率的影响;分析了具有不同RGe的本征层对a-SiGe单结电池的影响;通过调节沉积参数制备出具有合适本征层带隙的高质量a-SiGe单结电池,实现在800 nm波长处的量子效率达到18.9;,同时填充因子(FF)也达到0.62.
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刘石勇;李旺;牛新伟;杨德仁;王仕鹏;黄海燕;陆川. 非晶硅锗薄膜与太阳能电池研究[J]. 人工晶体学报, 2014, 43(4): 765-770.
LIU Shi-yong;LI Wang;NIU Xin-wei;YANG De-ren;WANG Shi-peng;HUANG Hai-yan;LU Chuan. Study on Amorphous Silicon Germanium(a-SiGe) Thin Films and Solar Cells[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2014, 43(4): 765-770.