微纳水溶解抛光工艺参数对KDP晶体面粗糙度影响的试验研究

人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (10): 2702-2707.

微纳水溶解抛光工艺参数对KDP晶体面粗糙度影响的试验研究

王旭;高航;陈玉川;滕晓辑

大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,大连,116024

出版日期:2015-10-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(51135002)

Effect of Micro Water Dissolution Polishing Parameters on the Surface Roughness of KDP Crystal

WANG Xu;GAO Hang;CHEN Yu-chuan;TENG Xiao-ji

Online:2015-10-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 微纳水溶解抛光与计算机控制光学表面成形(CCOS)小工具抛光技术相结合,是针对大尺寸易溶于水的KDP晶体元件的一种有效加工方法.本文针对小工具抛光中行星运动方式及水溶解抛光工艺特点,为揭示各抛光工艺参数对KDP晶体表面粗糙度的影响规律,对晶体进行均匀抛光,并以抛光头转速比和转速、自转和公转方向、抛光载荷、抛光头直径、抛光液含水量为参变量,得到了最优抛光参数:抛光头公转自转反向,转速100r/min;抛光液含水量7.5;(质量分数);使用较大尺寸抛光头(工件尺寸的十分之一至五分之一).

中图分类号:

王旭;高航;陈玉川;滕晓辑. 微纳水溶解抛光工艺参数对KDP晶体面粗糙度影响的试验研究[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(10): 2702-2707.

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