非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究

人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (5): 1191-1194.

非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究

罗士雨;冯磊;汪洪;林辉;滕浩;黄涛华;周圣明

中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

出版日期:2008-10-15 发布日期:2021-01-20

Study on the Preparation of Amorphous Silicon Film and Its Crystallization Property

LUO Shi-yu;FENG Lei;WANG Hong;LIN Hui;TENG Hao;HUANG Tao-hua;ZHOU Sheng-ming

Online:2008-10-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 用磁控溅射法在K9玻璃上沉积了非晶硅(a-Si)膜和a-Si/Al膜,并将其在流动的N2气氛下进行退火.对退火前后的样品进行Raman光谱、XRD和SEM表征和分析.Raman光谱表明随着退火温度的升高,a-Si膜的散射峰出现了明显的蓝移,但XRD结果表明薄膜仍为非晶态;而a-Si/Al膜在温度很低时就已经开始晶化.

中图分类号:

罗士雨;冯磊;汪洪;林辉;滕浩;黄涛华;周圣明. 非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(5): 1191-1194.

LUO Shi-yu;FENG Lei;WANG Hong;LIN Hui;TENG Hao;HUANG Tao-hua;ZHOU Sheng-ming. Study on the Preparation of Amorphous Silicon Film and Its Crystallization Property[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(5): 1191-1194.

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