人工晶体学报 ›› 2025, Vol. 54 ›› Issue (5): 772-783.DOI: 10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2024.0299
李家和1(), 郑丽丽1(
), 张辉2, 李翔3, 陈俊锋3
收稿日期:
2024-11-25
出版日期:
2025-05-15
发布日期:
2025-05-28
通信作者:
郑丽丽,博士,教授。E-mail:zhenglili@mail.tsinghua.edu.cn作者简介:
李家和(2000—),男,浙江省人,博士研究生。E-mail:jh-li22@mails.tsinghua.edu.cn
基金资助:
LI Jiahe1(), ZHENG Lili1(
), ZHANG Hui2, LI Xiang3, CHEN Junfeng3
Received:
2024-11-25
Online:
2025-05-15
Published:
2025-05-28
摘要: 氟化物晶体中包裹物缺陷显著影响光学质量,而包裹物缺陷在坩埚下降法中主要由晶体界面形状和生长速率决定。本文针对坩埚下降法技术,数值模拟研究热场结构对晶体生长速率和界面形状的影响趋势,以及获得使界面呈现微凸形状、稳定生长阶段延长的生长条件,形成有效调控包裹物缺陷的策略。研究发现,氟化物晶体生长形成凸度较大的界面主要由内辐射传热特性导致的界面附近径向吸热产生,增加绝缘区长度可减小起始阶段的生长速率,有效降低稳定生长阶段的界面凸度。提高上、下加热器温度可缩短初始不稳定生长区域,有效降低稳定生长阶段的界面凸度。对于大尺寸或多棒晶体生长,呈现径向温度梯度较大即晶体生长界面凸度过大,通过提高上加热器底端温度和增加绝缘区上部散热开口的热场设计,可以建立不利于包裹物生成的微凸界面形状。
中图分类号:
李家和, 郑丽丽, 张辉, 李翔, 陈俊锋. 坩埚下降法生长氟化物晶体的热场对界面形状和生长速率的影响[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(5): 772-783.
LI Jiahe, ZHENG Lili, ZHANG Hui, LI Xiang, CHEN Junfeng. Influence of Thermal Field on the Interface Shape and Growth Rate of Fluoride Crystals Grown by Bridgman Method[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2025, 54(5): 772-783.
参数 | 数值 | 参数 | 数值 |
---|---|---|---|
BaF2熔点/K | 1 641 | BaF2折射率 | 1.47 |
晶体热导率/(W·m-1·K-1) | 2.4 | 石墨密度/(kg·m-3) | 1 760 |
熔体热导率/(W·m-1·K-1) | 0.24 | 石墨热导率/(W·m-1·K-1) | 23.3 |
晶体平均消光系数/m-1 | 10 | 石墨定压热容/(J·kg-1·K-1) | 1 953 |
熔体平均消光系数/m-1 | 100 | 石墨发射率 | 0.9 |
BaF2定压热容/(J·kg-1·K-1) | 406.1 | 保温碳毡热导率/(W·m-1·K-1) | 0.54 |
BaF2密度/(kg·m-3) | 4 890 | 保温碳毡发射率 | 0.9 |
BaF2潜热/(105 J·kg-1) | 3.8 |
表1 物性参数[13,18]
Table 1 Physical property parameter[13,18]
参数 | 数值 | 参数 | 数值 |
---|---|---|---|
BaF2熔点/K | 1 641 | BaF2折射率 | 1.47 |
晶体热导率/(W·m-1·K-1) | 2.4 | 石墨密度/(kg·m-3) | 1 760 |
熔体热导率/(W·m-1·K-1) | 0.24 | 石墨热导率/(W·m-1·K-1) | 23.3 |
晶体平均消光系数/m-1 | 10 | 石墨定压热容/(J·kg-1·K-1) | 1 953 |
熔体平均消光系数/m-1 | 100 | 石墨发射率 | 0.9 |
BaF2定压热容/(J·kg-1·K-1) | 406.1 | 保温碳毡热导率/(W·m-1·K-1) | 0.54 |
BaF2密度/(kg·m-3) | 4 890 | 保温碳毡发射率 | 0.9 |
BaF2潜热/(105 J·kg-1) | 3.8 |
参数 | 数值 |
---|---|
坩埚长度,Lc/cm | 30 |
坩埚半径,Rc/cm | 6 |
晶体半径,Rcrystal/cm | 5.6 |
上加热器长度,Lh/cm | 35 |
下加热器长度,Ll/cm | 35 |
绝缘区长度,La | |
下降速率,Vp/(mm·h-1) | 2 |
坩埚底部放肩角度,θ |
表 2 变量说明和系统结构参数
Table 2 Variable description and system structure parameters
参数 | 数值 |
---|---|
坩埚长度,Lc/cm | 30 |
坩埚半径,Rc/cm | 6 |
晶体半径,Rcrystal/cm | 5.6 |
上加热器长度,Lh/cm | 35 |
下加热器长度,Ll/cm | 35 |
绝缘区长度,La | |
下降速率,Vp/(mm·h-1) | 2 |
坩埚底部放肩角度,θ |
图 4 晶体生长过程生长速率和界面形状演变。(a)中心轴线晶体生长速率随晶体生长高度的变化;(b)~(g)不同生长高度时的温度等温线分布
Fig.4 Evolution of growth rate and interface shape during growth. (a) Axial growth rate variation along the crystal growth height; (b)~(g) temperature distribution in different growth stages
图5 绝缘区长度分别为5、10、15和20 cm时的中心轴线晶体生长速率随晶体生长高度的变化(a),以及生长高度为200 mm时的等温线分布(b)~(e)
Fig.5 Variation of central axis crystal growth rate with crystal growth height for adiabatic block lengths of 5, 10, 15 and 20 cm (a), as well as the isotherm distribution at a growth height of 200 mm (b)~(e)
图 6 下加热器温度分别为1 300、1 400、1 500和1 600 K时的中心轴线晶体生长速率随晶体生长高度的变化(a),以及生长高度为200 mm时的等温线分布(b)~(e)
Fig.6 Variation of central axis crystal growth rate with crystal growth height at lower heater temperatures of 1 300, 1 400, 1 500, and 1 600 K (a), as well as the isotherm distribution at a growth height of 200 mm (b)~(e)
图 7 上加热器温度分别为1 675、1 700、1 725和1 750 K时的中心轴线晶体生长速率随晶体生长高度的变化(a),以及生长高度为200 mm时的等温线分布(b)~(e)
Fig.7 Variation of central axis crystal growth rate with crystal growth height at upper heater temperatures of 1 675, 1 700, 1 725, and 1 750 K (a), as well as the isotherm distribution at a growth height of 200 mm (b)~(e)
图8 不同坩埚底部形状(θ=0°、15°、30°)时的中心轴线晶体生长速率随晶体生长高度变化(a),以及生长界面形状演变(b)~(d)
Fig.8 Variation of central axis crystal growth rate with crystal growth height at different crucible bottom shapes (θ=0°, 15°, 30°) (a), as well as the evolution of the growth interface shape (b)~(d)
图9 晶体尺寸对生长速率和界面形状的影响。(a)不同尺寸中心轴线晶体生长速率随晶体生长高度变化;小尺寸(b)和大尺寸(c)晶体稳定生长阶段等温线分布
Fig.9 Effect of crystal size on growth rate and interface shape. (a) Variation of central axis crystal growth rate with crystal growth height of different crystal sizes; temperature distribution of small-sized (b) and large-sized (c) crystal
图10 大尺寸晶体热场调控。(a)不同上加热器温度的中心轴线晶体生长速率随晶体生长高度变化;(b)、(c)等温线分布
Fig.10 Thermal field control of large-sized crystals.(a) Variation of central axis crystal growth rate with crystal growth height at different upper heater temperatures; (b), (c) temperature distribution
图 13 实际炉体中的热场调控。(a)不同上加热器底端温度Tc的界面形状(L表示熔体,S表示晶体);(b)晶体生长系统局部示意图;(c)散热开口示意图;(d)不同散热开口高度d的界面形状
Fig.13 Heat field control in actual furnace. (a) Interface shape of different Tc (L represents melt, S represents crystal); (b) local diagram of the crystal growth system; (c) diagram of heat dissipation opening; (d) interface shape of different d
图14 不同上加热器底端温度Tc(a)和散热开口高度d(b)的温度边界
Fig.14 Temperature profile of different upper heater bottom temperatures Tc (a) and heat dissipation opening heights d (b)
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