衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响

人工晶体学报 ›› 2007, Vol. 36 ›› Issue (1): 129-133.

衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响

赵子文;胡礼中;张贺秋;孙景昌;刘维峰;骆英民;霍炳至

大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116023

出版日期:2007-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(50532080);辽宁省科技计划(20022133)

Effect of Substrate Temperature on the Optical and Electronic Properties of ZnO Film Prepared by PLD

ZHAO Zi-wen;HU Li-zhong;ZHANG He-qiu;SUN Jing-hang;LIU Wei-feng;LUO Ying-min;HUO Bing-zhi

Online:2007-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 利用脉冲激光沉积法(PLD)在c面蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜并对其进行了X射线衍射(XRD)、反射式高能电子衍射(RHEED)、光致发光(PL)谱和霍尔(Hall)测试.RHEED和XRD分析表明,温度在350℃至550℃之间时,ZnO薄膜的结晶质量随着衬底温度的升高而提高,当衬底温度进一步升高后,ZnO薄膜的结晶质量开始下降.四个样品中,衬底温度为550℃的样品具有最清晰的规则点状RHEED图像和半高宽最窄的(0002)衍射峰.PL谱和Hall测量的结果表明,衬底温度为550℃的样品还具有最好的发光性质和最大的霍尔迁移率.

中图分类号:

赵子文;胡礼中;张贺秋;孙景昌;刘维峰;骆英民;霍炳至. 衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(1): 129-133.

ZHAO Zi-wen;HU Li-zhong;ZHANG He-qiu;SUN Jing-hang;LIU Wei-feng;LUO Ying-min;HUO Bing-zhi. Effect of Substrate Temperature on the Optical and Electronic Properties of ZnO Film Prepared by PLD[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2007, 36(1): 129-133.

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