人工晶体学报 ›› 2020, Vol. 49 ›› Issue (11): 2024-2037.
所属专题: 宽禁带半导体晶体与器件
任国强;刘宗亮;李腾坤;徐科
出版日期:
2020-11-15
发布日期:
2021-01-20
基金资助:
REN Guoqiang;LIU Zongliang;LI Tengkun;XU Ke
Online:
2020-11-15
Published:
2021-01-20
摘要: 氮化镓(GaN)具有高击穿场强、高饱和电子漂移速率、抗辐射能力强和良好的化学稳定性等优良特性,是制作宽波谱、高功率、高效率光电子、电力电子和微电子的理想衬底材料.除气相法(包括HVPE(氢化物气相外延)、MOCVD(金属有机化合物化学气相沉淀)、MBE(分子束外延))生长GaN单晶外,液相法(包括氨热法和助熔剂法)近几年在制备GaN单晶方面取得了较大的进展.本文介绍了氨热法和助熔剂法的生长原理、装备特点及生长习性;综述了两种液相生长方法的研究历程及研究进展,并对液相法生长GaN单晶的发展趋势及主要挑战进行了展望.
中图分类号:
任国强;刘宗亮;李腾坤;徐科. 氮化镓单晶的液相生长[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(11): 2024-2037.
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