人工晶体学报 ›› 2020, Vol. 49 ›› Issue (8): 1555-1561.
马英俊;林泉;于洪国;马会超;许兴;李万朋;许所成
出版日期:
2020-08-15
发布日期:
2021-01-20
MA Yingjun;LIN Quan;YU Hongguo;MA Huichao;XU Xing;LI Wanpeng;XU Suocheng
Online:
2020-08-15
Published:
2021-01-20
摘要: GaAs单晶作为一种重要的LED衬底材料在光电器件中应用十分广泛,但载流子浓度(C.C.)分布不均、杂质浓度过高等缺陷会严重影响相关器件的性能.为制备纵向载流子浓度分布均匀的掺硅HB-GaAs单晶,本文探讨了单晶生长过程中熔区长度对纵向载流子浓度分布的影响.以高纯GaAs多晶为原料,设定不同的拉晶温度曲线,采用窄熔区技术进行晶体生长研究,最终生长出C.C.值分布更均匀、位错密度低(EPD≤10 000 cm-2)的<111>向N型掺硅GaAs单晶.利用辉光放电质谱法(GDMS)和范德堡法霍尔效应测试对晶体进行了表征,单晶纯度达到5N且无硼杂质沾污.
中图分类号:
马英俊;林泉;于洪国;马会超;许兴;李万朋;许所成. 红外LED用掺硅HB-GaAs单晶纵向载流子浓度分布研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(8): 1555-1561.
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