Zn掺杂氮化硼的电子结构与光学性质的第一性原理研究
和志豪, 苟杰, 王云杰, 齐亚杰, 丁家福, 张博, 赵星胜, 裴翊祯, 侯姝宇, 苏欣
2024, 53(7):
1249-1256.
摘要
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计量指标
本文基于密度泛函理论研究了三种浓度分别为0.062 5、0.125、0.25的Zn掺杂氮化硼(BN)的电子结构和光学性质。结果表明:掺杂后三种体系的缺陷形成能均大于零,为此又计算了其应力,发现三种体系能稳定存在。随着掺杂浓度的提高,体系的带隙逐渐减小,且B1-xZnxN(x=0, 0.062 5, 0.125)为直接带隙半导体,B0.75Zn0.25N为间接带隙半导体。Zn的掺入在费米能级附近引入了受主能级,使价带上移越过费米能级,掺杂体系均具有p型半导体的特征,降低了电子跃迁的难度。随着掺杂浓度的增大,四种体系的静介电常数逐渐增大,掺杂体系的虚部峰值逐渐减小,且在最高峰值处对应反射率的值逐渐变小。在低能量区域内,掺杂体系增强了对光的吸收,吸收边发生红移。掺杂体系中B—N键和N—Zn键的键强逐渐增强。结论显示,掺杂Zn原子可以有效改善BN的电子结构与光学性质。