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当期目录

    2021年 第50卷 第9期
    刊出日期:2021-09-15
    特邀综述
    单晶光纤制备及高温传感器研究进展
    王涛, 贾志泰, 李阳, 张健, 陶绪堂
    2021, 50(9):  1603-1624. 
    摘要 ( 397 )   PDF (41858KB) ( 593 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    单晶光纤(single-crystal fiber),是一种纤维形态的晶体材料,凭借优异的物理和化学性能以及大长径比的结构特点在国防及民生领域都有着广泛的应用前景。随着导模法、激光加热基座法以及微下拉法等生长技术的日渐成熟,单晶光纤迎来了科学研究和应用发展的黄金时期,其材料种类以及应用方向均呈现多元化发展态势,其中面向高温传感领域的高熔点氧化物单晶光纤凭借其耐高温、抗氧化、结构紧凑等特点在强氧化、强辐射、强腐蚀、强电磁干扰等极端环境中展现出了巨大的应用潜力。近年来,研究者们不断将光学、声学等传感技术与单晶光纤介质相结合,在保持传感器结构灵活性的基础上,拓宽了常规玻璃光纤传感器的使用温度,同时弥补了热电偶等传统接触式测温技术在恶劣环境中寿命较低的缺陷。本文以单晶光纤的制备技术为出发点,回顾了单晶光纤的发展历史,分析了单晶光纤三种主要制备方法的技术特点及发展现状。同时,总结了单晶光纤在高温传感领域的主要研究成果,展望了单晶光纤高温传感技术的应用前景。
    研究论文
    K、Ti掺杂Mg2Si电子结构和光学性质的第一性原理研究
    张琴, 谢泉, 杨文晟, 黄思丽
    2021, 50(9):  1625-1632. 
    摘要 ( 75 )   PDF (9344KB) ( 56 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    采用第一性原理方法,对本征Mg2Si以及K和Ti掺杂Mg2Si的几何结构、电子结构和光学性质进行计算分析。计算结果表明本征Mg2Si是带隙值为0.290 eV的间接带隙半导体材料,K掺杂Mg2Si后,Mg2Si为p型半导体,电子跃迁方式由间接跃迁变为直接跃迁,Ti掺杂Mg2Si后,Mg2Si为n型半导体,仍然是间接带隙。K、Ti掺杂后的静介电常数ε1(0)从20.52分别增大到53.55、69.25,使得掺杂体系对电荷的束缚能力增强。掺杂后,吸收谱和光电导率均发生红移现象,这有效扩大了对可见光的吸收范围,此外可见光区的吸收系数、反射系数以及光电导率都减小,导致透射能力增强,明显改善了Mg2Si的光学性质。
    Mg2Sn机械性质及热电输运性能的第一性原理计算
    陈松, 毛文蔚, 王卫国
    2021, 50(9):  1633-1639. 
    摘要 ( 74 )   PDF (10775KB) ( 50 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    窄带隙半导体材料Mg2Sn具有丰度大、密度低、无毒及环境友好等特点,是中低温热电材料的优秀候选者。本文基于密度泛函理论,结合不同形式的电子交换关联能系统分析了Mg2Sn晶体的弹性系数、声子振动谱和电子能带结构,并基于非平衡玻尔兹曼输运理论计算了Mg2Sn的热电性能。结果表明,GGA-PBE作为电子交换关联能可以很好地拟合立方相Mg2Sn的力学性能(声子振动谱无虚频率),其体弹性模量为42.1 GPa且各向同性。同时,当工作温度高于300 K,Mg2Sn的德拜温度开始趋于平缓且不高于315 K,表明Mg2Sn在该温度区域内具有低声子热导率。使用B3LYP作为电子交换关联能可以估算Mg2Sn费米能级附近的电子结构,发现价带顶附近存在三重简并态。同时计算结果表明,Mg2Sn p型掺杂下的热电优值(ZT值)优于n型掺杂,可达1.05。本研究结果为进一步优化Mg2Sn热电性能的研究提供借鉴。
    金刚石(001)面在Cu多种覆盖度下的稳定构型与电子特性
    吴孔平, 张冷, 王丹蓓, 肖柳, 陈泽龙, 张靖晨, 张鹏展, 刘飞, 汤琨, 叶建东, 顾书林
    2021, 50(9):  1640-1647. 
    摘要 ( 80 )   PDF (9595KB) ( 34 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    金刚石表面的电子特性很容易受到其表面覆盖物的影响,而目前表面稳定、性能优良的表面覆盖层依然处于研究与寻找中。本文研究的过渡金属Cu不仅在半导体微加工中被广泛使用,更由于过渡金属Cu与金刚石都具有优异的散热性能,因此Cu覆盖金刚石已经超出寻常电极使用的意义,其金属-半导体结构更具有表面修饰剪裁电子特性的功能。文中通过使用密度泛函模拟方法,研究了Cu的不同覆盖度(0.25 ML、0.5 ML和1 ML)下金刚石(001)表面的单原子吸附能、稳定构型以及稳定体系的能带结构特性。结果表明,各种覆盖度下的Cu原子在金刚石(001)表面具有较稳定的表面吸附构型,并且过渡金属Cu的覆盖使得金刚石(001)表面产生了约为-0.5~-0.3 eV的负电子亲和势,肖特基势垒高度约为-0.16~0.04 eV,这些理论结果与实验结果基本一致。因此过渡金属Cu作为表面覆盖层在金刚石基电子发射器方面具有重要的应用价值。
    高掺锌/镁铌酸锂薄膜的光电性质
    肖靖, 常双聚, 赵莉, 朱亚彬, 陈云琳
    2021, 50(9):  1648-1654. 
    摘要 ( 111 )   PDF (7898KB) ( 63 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    室温下采用射频磁控溅射(RFMS)技术在玻璃与硅基板上分别沉积了纯铌酸锂LN薄膜、高掺锌(6%,摩尔分数,下同)LN∶ZnO薄膜和高掺镁(5%)LN∶MgO薄膜,并在575 ℃条件下退火进一步提高薄膜的结晶度。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、紫外可见吸收(UV-Vis)和椭偏仪等测试研究了三种铌酸锂薄膜的形貌、结构和光学性质。XRD分析表明掺杂铌酸锂薄膜和纯铌酸锂薄膜具有相同的生长取向,AFM、XRD、UV-Vis测试结果表明,掺杂将增大铌酸锂薄膜的晶粒尺寸,光学带隙的红移现象与晶粒尺寸相关,且掺Mg的影响大于掺Zn。此外利用霍尔效应测试仪研究了LN、LN∶ZnO和LN∶MgO薄膜的电学性质,测试结果表明三种薄膜均为n型半导体,其中LN∶MgO薄膜电导率的变化趋势不同于LN∶ZnO和LN薄膜,且发现温度在18~50 ℃范围内,随着温度的升高,LN∶MgO薄膜的电导率变化微小,而LN∶ZnO和LN薄膜的电导率逐渐增大。
    Bi26-x-yMxNyO40(M, N=Fe, Co, Gd)软铋矿薄膜的制备和强磁光效应
    高腾, 邢锟, 吴功辉, 陈新, 胡晓琳, 庄乃锋
    2021, 50(9):  1655-1661. 
    摘要 ( 68 )   PDF (13689KB) ( 72 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    磁光材料是现代光通信产业中不可或缺的关键功能材料。为了实现光通信器件的小型化,高质量磁光薄膜材料受到关注。软铋矿型Bi25FeO40具有高对称性的立方晶体结构,单位体积所含铋离子浓度高,理论上应具有较强的磁光效应,但却因为磁性偏弱、制备困难等缺点而限制了其应用。本文采用射频磁控溅射法,在掺钇二氧化锆(YSZ)基底上沉积获得具有立方相软铋矿型结构的Bi26-x-yMxNyO40 (M, N=Fe, Co, Gd)磁光薄膜,并对其形貌、磁性、透过率、磁圆二色信号等进行表征。结果表明,薄膜均较为平整,厚度约为190 nm,在近红外区的透过率约为60%~70%。薄膜的磁性随着掺杂离子含量的提高逐渐增强。Bi13.6Gd2.7Co4.0Fe5.7O40/YSZ薄膜具有强磁光效应,在716 nm处的磁圆二色光谱信号高达到1 710 deg/cm,有望应用于集成光隔离器等光通信器件中。
    低温热处理温度对SiC衬底上CuAlO2薄膜特性的影响
    胡继超, 孟佳琦, 李丹, 贺小敏, 王曦, 许蓓, 蒲红斌
    2021, 50(9):  1662-1667. 
    摘要 ( 78 )   PDF (7250KB) ( 34 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    为了解决双极型碳化硅(SiC)功率器件中由于p型SiC在室温下难以完全电离所导致的p+n发射结注入效率低的问题,提出将p型CuAlO2与n型SiC形成的异质结作为发射结以提高该结的注入效率。本文利用溶胶凝胶(sol-gel)方法,在4H-SiC衬底上制备了CuAlO2薄膜,研究了低温热处理温度对CuAlO2薄膜晶体结构、表面形貌、光学特性的影响。结果表明:较高的热处理温度可以促进中间产物CuO的生成,进而在固相反应阶段促进CuAlO2相的产生,最终制备的CuAlO2薄膜主要以CuAlO2相的(012)晶向择优取向。随着低温热处理温度的升高,薄膜的表面均匀致密,空位缺陷含量降低,结晶质量提高。当低温热处理温度为300 ℃时,CuAlO2薄膜晶粒尺寸约为35 nm。此外,CuAlO2薄膜在可见光范围内的透过率超过70%,且随着预处理温度升高,薄膜光学带隙略有增加。
    反应磁控溅射氧化镍薄膜的自旋塞贝克效应
    罗健, 张小伟, 代波
    2021, 50(9):  1668-1674. 
    摘要 ( 83 )   PDF (8712KB) ( 33 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    自旋塞贝克效应是由(亚)铁磁体中的温度梯度引起自旋塞贝克电压信号的现象,目前已成为热自旋电子学研究的热点领域之一。本文采用反应磁控溅射工艺在Si衬底上沉积NiO薄膜,分别研究了溅射功率、氧氩比例、溅射气压、衬底温度对NiO薄膜微观结构和表面形貌的影响,实验中反应磁控溅射最适工艺条件为溅射功率110 W、氧氩比例0.15(O2 15 mL/min; Ar 100 mL/min)、溅射气压0.3 Pa、衬底温度400 ℃。研究了Si/NiO/Pt结构中温度梯度(温差)、磁场角度、NiO厚度变化和Pt厚度变化对自旋塞贝克电压的影响。结果表明,自旋塞贝克电压与温差呈简单的线性关系,温差越大测得的自旋塞贝克电压越高;磁场角度与自旋塞贝克电压之间满足余弦函数关系式,即在0°和180°时所得自旋塞贝克电压最大,90°和270°时为零;反铁磁性绝缘层NiO的厚度越大,所测得的自旋塞贝克电压信号越强;顺磁金属层Pt的厚度越大,自旋塞贝克电压信号越弱。
    溅射功率和溅射时间对Mg2Si纳米晶薄膜结构和电阻率的影响
    廖杨芳, 谢泉
    2021, 50(9):  1675-1680. 
    摘要 ( 69 )   PDF (5336KB) ( 40 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    采用射频磁控溅射在蓝宝石衬底上制备了Mg2Si纳米晶薄膜,研究了Mg2Si烧结靶溅射功率(90~140 W)及溅射时间(10~60 min)对Mg2Si薄膜的结构和电阻率的影响。结果表明:随着溅射功率增加,样品的XRD衍射峰逐渐增强;但当功率超过100 W时,样品中出现了偏析出来的单质Mg。随着溅射时间增加,样品的XRD强度先增强后减弱,溅射时间为40 min时,样品的XRD衍射峰最强;继续增加溅射时间,样品中出现微弱的MgO衍射峰。所有样品均呈现出Mg2Si晶体的特征拉曼峰,即256 cm-1附近的F2g模及347 cm-1附近的F1u(LO)模。随着溅射功率增加,样品的电阻率减小;随着溅射时间增加,样品的电阻率先减小后增大,溅射时间为40 min时,样品的电阻率最小。
    衬底温度对氧化锌薄膜微结构及光学性能的影响
    陈星辉, 唐颖慧, 王加强, 柴晗阳, 魏新琪, 陈光伟
    2021, 50(9):  1681-1687. 
    摘要 ( 67 )   PDF (2874KB) ( 31 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    衬底温度是磁控溅射法制备氧化锌薄膜中一个非常重要的工艺指标,探索衬底温度对氧化锌薄膜微结构及光学性能的影响对制备环保型高质量氧化锌紫外屏蔽材料具有重要意义。以质量分数99.99%的氧化锌陶瓷靶为溅射源,利用射频磁控溅射技术在石英衬底上沉积了氧化锌紫外屏蔽薄膜,通过X射线衍射仪、薄膜测厚仪、紫外-可见分光光度计、荧光分光光度计进行测试和表征,研究了不同衬底温度对ZnO薄膜微结构及光学性能的影响。实验结果表明:制备所得薄膜均为六角纤锌矿结构,具有沿(002)晶面择优取向生长的特点,其晶格常数、晶粒尺寸、透过率、光学能隙、可见荧光、结晶质量等都与衬底温度密切相关,当衬底温度为250 ℃,溅射功率160 W,氩气压强0.5 Pa,氩气流速8.3 mL/min,沉积时间60 min时,所得氧化锌薄膜样品取向性最好,晶粒尺寸最大,薄膜结构致密,具有良好的光学性能和结晶质量。
    水基溶胶-凝胶沉积法制备YBCO薄膜
    何东, 徐文博, 胡文鹏, 程大伟, 童靓
    2021, 50(9):  1688-1693. 
    摘要 ( 85 )   PDF (3821KB) ( 51 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    本文研究了退火温度对用水基溶胶-凝胶工艺在LaAlO3 (100) 单晶衬底上沉积的YBCO 薄膜性能的影响。研究发现,随着温度的升高,薄膜的面内取向得到了优化,而薄膜的面外取向则不然。在 789 ℃退火的YBCO薄膜在77 K和0 T条件下的临界电流密度Jc达到了1.7 MA/cm2。而其他温度退火的薄膜的缺陷可能会导致YBCO超导电性变差。然而,这些薄膜中存在的残余应力应变也有助于增强其钉扎力并改善薄膜外加场下的电性能。
    Li(Na, K)Ba(Sr, Ca)B9O15∶Eu3+荧光粉的制备及发光性能
    王俣欢, 陈永杰, 张文花, 耿秀娟, 杨英
    2021, 50(9):  1694-1701. 
    摘要 ( 72 )   PDF (9668KB) ( 30 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    采用高温固相法在空气气氛下合成了一系列Eu3+掺杂硼酸盐基质荧光粉。用X射线衍射、荧光光谱以及色坐标等手段对荧光粉的晶相和发光性能进行表征。通过LiBaB9O15中的碱金属以及碱土金属之间的相互取代,研究了基质组成的改变对荧光粉发光性能的影响。结果表明,在Li(Na,K)Ba(Sr,Ca)B9O15∶0.07Eu3+系列荧光粉中,LiSrB9O15∶0.07Eu3+荧光粉的发光强度最强。考察了煅烧温度、保温时间和Eu3+掺杂量对LiSrB9O15∶Eu3+荧光粉晶相和发光性能的影响,煅烧温度为750 ℃,保温时间为1~5 h时,样品的结晶性均良好。Eu3+掺杂量为0.52时,LiSrB9O15∶Eu3+荧光粉的发光强度最强。当x≥0.42(x=0.42,0.47,0.52,0.57)时,LiSrB9O15xEu3+色坐标均接近标准红光(0.67,0.33)。比较了LiSrB9O15xEu3+(x=0.02~0.57)荧光粉的611 nm(5D07F2)和586 nm(5D07F1)处发射峰相对强度比值R,R值变化不大,说明多数Eu3+在晶格中处于非反演对称中心的格位;比较了LiSrB9O15∶0.52Eu3+荧光粉和商用Y2O3∶Eu3+荧光粉的发光特性,在260 nm波长激发下,LiSrB9O15∶0.52Eu3+荧光粉的发光强度弱于Y2O3∶Eu3+荧光粉;在362 nm和394 nm波长激发下,LiSrB9O15∶0.52Eu3+荧光粉的发光强度强于Y2O3∶Eu3+荧光粉。
    Eu3+掺杂Sr3Y2TeO9的红色荧光粉
    杨寅, 杨伟斌, 罗新, 谢岚驰, 林洪沂, 熊飞兵
    2021, 50(9):  1702-1708. 
    摘要 ( 58 )   PDF (6067KB) ( 28 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    采用高温固相法制备了一系列Sr3Y2-xTeO9xEu3+新型红色荧光粉,研究了Sr3Y2-xTeO9xEu3+的物相结构、发光性能、衰减寿命以及热稳定性。研究结果表明新型红色荧光粉Sr3Y2-xTeO9xEu3+能在近紫外光或蓝光激发下发出强烈的红光,并确定了Sr3Y2-xTeO9xEu3+的浓度猝灭机制是电偶极-电偶极之间相互作用。其色坐标结果表明,随着掺杂浓度的增加该荧光粉的色坐标均在红色区域。温度相关荧光发射光谱揭示了该荧光粉具有良好的热稳定性。荧光衰减曲线显示在Sr3Y2-xTeO9xEu3+荧光粉中当x=0.34时为最佳掺杂浓度,其平均荧光寿命为0.619 ms。综合以上研究结果表明新型红色荧光粉Sr3Y2-xTeO9xEu3+在荧光转换近紫外激发白光二极管中具有良好的应用前景。
    α相和β相BiNbO4∶Eu3+的荧光性能
    李强, 皇甫战彪, 李海宁, 董兴邦, 朱祥, 郝蕴琦, 王征
    2021, 50(9):  1709-1714. 
    摘要 ( 59 )   PDF (6613KB) ( 25 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    采用高温固相法合成出正交相和三斜相结构的BiNbO4∶Eu3+样品,利用X 射线衍射(XRD)、拉曼光谱、吸收光谱和荧光光谱对样品的结构和光学性能进行了研究。结果表明:900 ℃合成样品为正交相结构α-BiNbO4,而1 200 ℃得到三斜相结构β-BiNbO4。吸收光谱得到α相和β相BiNbO4的光学带隙分别为2.69 eV和2.96 eV,与第一性原理的理论结果2.640 eV和3.032 eV相吻合。Eu3+掺杂诱导二者的光学带隙蓝移至2.89 eV和3.05 eV,有效改变了其光响应范围。荧光光谱表明:Eu3+在两种结构的最强荧光峰均来自5D07F2电偶极跃迁,最强荧光峰分别位于615 nm和611 nm。Eu3+在β-BiNbO4中的荧光强度更高,而且其5D07F25D07F1的荧光强度比值更大。与Eu3+相似,Er3+在β-BiNbO4中具有更高的上转换荧光强度,其强度约是在α-BiNbO4中荧光的近40倍,说明三斜结构BiNbO4更适合做稀土离子的基质材料。
    颜色可调Ca2LaTaO6∶Dy3+,Tb3+荧光粉的制备、发光性能及能量传递
    袁博, 祁超超, 张相挺, 栾国颜
    2021, 50(9):  1715-1722. 
    摘要 ( 53 )   PDF (9043KB) ( 28 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    本文利用高温固相反应法制备了高效黄绿色多色发光荧光粉Ca2LaTaO6∶Dy3+, Tb3+,其主要窄发射带来自Tb3+的547 nm处,并且由于Dy3+的敏化作用而在250~400 nm区域具有宽激发带,将Dy3+和Tb3+共掺到Ca2LaTaO6 (CLTO)基质中,构建能量传递体系。通过激发/发射光谱及寿命衰减曲线测试证实了Dy3+到Tb3+的能量传递过程。Dy3+→Tb3+的能量传递以偶极-四极相互作用为主,能量传递效率可达80%甚至更高。基于该能量传递过程,在Dy3+的特征激发下,通过改变Dy3+和Tb3+的相对掺杂浓度,可以使发光颜色由黄色渐变为绿色,说明发光颜色可调的多色发光荧光粉Ca2LaTaO6∶Dy3+, Tb3+在荧光粉转换的白光LED中具有潜在的应用前景。
    稀土金属Ce3+掺杂ZnO材料的光催化机理
    李佩欣, 辛浪, 宋佳, 杨爱云, 崔娟, 殷春浩
    2021, 50(9):  1723-1728. 
    摘要 ( 88 )   PDF (2831KB) ( 43 )  
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    通过溶胶凝胶法制备了光催化活性更高的Ce∶ZnO复合粉体光催化材料,并采用X射线衍射(XRD)、电子顺磁共振(EPR)、紫外可见光谱(UV-Vis)技术对所制备的粉体样品的晶体种类及结构、自由基种类及含量、光催化效率进行表征分析。复合样品的X射线衍射测试结果显示,随着掺杂浓度的增加,先后检测到CeO2的(111)和(200)晶面特征峰,且衍射峰强度逐渐增强。此外,适量的掺杂(c(Ce3+)=2%)可减小ZnO晶体的晶粒尺寸。电子顺磁共振测试结果显示,Ce∶ZnO复合光催化材料中存在三类自由基,分别是Zn-H络合物、正一价氧空位、CeO2表面吸附的超氧根离子。紫外可见光谱测试表明,适量的掺杂可有效提高ZnO催化剂的光催化活性,综合分析显示,ZnO光催化活性提高的主要原因是Ce3+的掺入使得材料中电子数量增多,进而提高了活性自由基·O-2的数量。本文通过EPR技术和XRD衍射技术,成功表征了Ce3+掺杂对ZnO材料中自由基种类合成的影响过程,并结合UV-Vis技术,对Ce∶ZnO复合材料光催化降解甲基橙的过程中的电子转移过程作出了合理的解释。
    共沉淀法合成ZnMoO4粉体及其抗菌性能
    刘欣, 唐燕超, 刘芳, 李家科
    2021, 50(9):  1729-1734. 
    摘要 ( 46 )   PDF (7509KB) ( 32 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    以Zn(NO3)2·6H2O、(NH4)6Mo7O24·4H2O为主要原料,采用共沉淀法合成ZnMoO4粉体。利用XRD、SEM等测试方法对合成样品的物相组成、微观结构进行表征。以培养的大肠杆菌为消杀对象,研究了不同热处理温度下的样品对大肠杆菌的抗菌性能。结果表明,前驱体主要为非晶态,含少量ZnMoO4、Zn2Mo3O8、Zn(OH)2和MoO3;前驱体经400~600 ℃、保温30 min热处理,其产物转化为ZnMoO4,且随着热处理温度的升高,合成的ZnMoO4晶型逐渐完善,抗菌性能增加,当热处理温度为600 ℃时,可以获得结晶良好的ZnMoO4,其晶粒呈颗粒状和片状,平均粒径约为1.5 μm。不同热处理温度合成的ZnMoO4均具有一定的抗菌性能,其中经600 ℃热处理得到的ZnMoO4具有最佳抗菌性能,经过24 h抗菌检测,其抗菌率达到99.2%,在商用涂料料浆中外加5%的ZnMoO4粉体,所制备涂层对大肠杆菌的抗菌率达到95.7%,表明ZnMoO4及其涂料具有良好的应用前景。
    原位合成Bi3O4Br/Bi12O17Br2光催化剂及其对磺胺甲噁唑降解性能
    李瑞, 张潇, 张璐璐, 谢芳霞, 张小超, 王雅文, 樊彩梅
    2021, 50(9):  1735-1744. 
    摘要 ( 53 )   PDF (14465KB) ( 34 )  
    参考文献 | 相关文章 | 计量指标
    BixOyBrz光催化剂在有机药物废水处理领域有着非常广阔的潜在应用价值,但因光生电子和空穴的快速复合而表现出较低的光催化效率,进而限制了其应用范围。通过简易的水解-焙烧法原位制得一种新型的Bi3O4Br/Bi12O17Br2复合光催化剂,并以磺胺甲噁唑(SMX)为模拟药物污染物进行了光催化性能测试,对所制催化剂进行了X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)、电化学阻抗(EIS)、光致发光光谱(PL)等表征。结果表明所制备的Bi3O4Br/Bi12O17Br2复合光催化剂具有较强的光生载流子分离率、较低的界面电荷转移电阻,进而展示出优异的光催化降解SMX性能,在模拟太阳光下照射30 min,SMX降解率达到87%,相较于纯的Bi3O4Br和Bi12O17Br2催化剂,降解率分别提升了30%和24%。最后基于自由基捕获实验和催化剂能带结构分析了所制催化剂的降解机理。
    制备方法对Al2O3-CeO2物化性质及CO2加氢制甲醇催化性能的影响
    范兴其, 姚梦琴, 刘飞, 王晓丹, 曹建新
    2021, 50(9):  1745-1755. 
    摘要 ( 78 )   PDF (21525KB) ( 41 )  
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    复合氧化物界面性质与CO2加氢制甲醇反应的催化性能有着重要的关系。本文对比考察了物理共混法、浸渍法、传统共沉淀法和微流控连续共沉淀法对Al2O3-CeO2复合氧化物界面性质和催化性能的影响。浸渍作用尽管使Al2O3/CeO2界面产生了一定的结构性质调变,但贫瘠的氧空位缺陷导致催化反应效率低。共沉淀样品中固溶结构的存在增强了Al2O3/CeO2界面的相互作用,增大了电子结合能,形成的大量氧空位缺陷有利于CO2活化转化。而微流控连续共沉淀法合成样品因具有更小的晶粒尺寸、均匀的复合相结构和丰富的氧空位缺陷,表现出更为优异的催化性能。在原料气配比为V(H2)∶V(CO2)∶V(N2)=72∶24∶4,反应温度为320 ℃,反应压力为3 MPa,体积空速为9 000 mL·g-1·h-1的条件下,Al2O3-CeO2复合氧化物的CO2转化率、甲醇选择性及甲醇时空产率分别达到15.3%,86.4%和0.076 g·mL-1·h-1
    高岭石基介孔复合材料的二氧化碳吸附性能
    陈心怡, 程宏飞, 赵炳新, 胡棉舒, 贾晓辉
    2021, 50(9):  1756-1764. 
    摘要 ( 57 )   PDF (15252KB) ( 26 )  
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    碳排放量的快速增长所引起的全球气候变暖问题越来越受到各国的关注,因此研发制备可行高效的二氧化碳(CO2)捕获材料具有极其重要的意义。本文以高岭石为原材料,采用煅烧-碱活化-酸刻蚀的方法,制备出介孔氧化硅载体(KNH),再将KNH经过五乙烯六胺(PEHA)修饰后制备出介孔复合材料(KNH-PEHA)。通过X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、扫描电子显微镜(SEM)、N2物理吸附等方法对样品进行表征,并进一步对样品进行CO2吸附性能研究。结果表明,PEHA的浸渍修饰并未改变载体的结构,但显著提高了介孔复合材料对CO2的吸附能力。吸附温度为25 ℃,KNH的CO2吸附量为147.39 cm3/g,而PEHA质量分数为30%的KNH(KNH-P-30)平衡时的CO2吸附量达到389 cm3/g,远高于未经PEHA修饰的KNH的吸附量,同时提出了该固体吸附剂对CO2的吸附机理,为高岭石在气体吸附领域的应用提供一个新思路。
    圆筒式柱面磁控溅射靶的磁场设计与仿真研究
    杨欣蕾, 弥谦, 龚立榕, 周凤琳
    2021, 50(9):  1765-1773. 
    摘要 ( 128 )   PDF (17580KB) ( 286 )  
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    为探究一种可实现向心溅射的圆筒式柱面磁控阴极靶,需要对靶装置内的磁场分布进行研究,进一步讨论靶结构参数对其磁场分布的影响规律。本文根据磁控靶的结构与工作原理,利用COMSOL Multiphysics有限元分析软件中AC/DC接口,对靶进行三维模型构建、划分网格和仿真计算。通过改变靶内磁体形状尺寸、磁轭形状以及结构排布,对靶面磁场的分布进行规律探究。最终确定新型圆筒式柱面磁控溅射阴极靶内的磁场结构参数,结果表明结构靶面磁场分布均匀且大小满足溅射要求的磁感应强度(20~50 mT),平行靶面均匀磁场区域达35%~40%左右。通过这类靶磁场结构的研究,为设计优化磁控阴极靶提供依据。
    改进型单晶炉提拉系统偏心平衡研究
    王维, 黄鸣, 常晓鱼, 张昊, 吴奇, 龙连春
    2021, 50(9):  1774-1779. 
    摘要 ( 148 )   PDF (9635KB) ( 122 )  
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    随着光伏行业的快速发展, 对硅单晶的品质和长晶装备的稳定性的要求也不断提高。直拉法是生产硅单晶的主要方法,通过提高单晶炉副室的高度以扩大单晶硅的生产规模。由于副室高度的大幅增加,且单晶炉提拉头质心相对于旋转轴心有一定距离,对单晶炉整体稳定性有较大影响,从而降低了单晶硅的生产质量。针对此问题,对单晶炉建立可靠的力学分析模型,采用数值仿真方法,对单晶炉整体进行动力学响应分析,计算得到副室高度增加后的单晶炉工作时中钨丝绳下端晶棒的运动规律以及最大摆动幅度,为改进设计提供依据。数值仿真分析表明提高单晶炉副室高度后,提拉头较大的质心偏心是单晶炉提拉系统发生摆动的主要原因。在此基础上提出在提拉头上添加质心调节装置,通过控制系统调节可保证提拉头质心位置在旋转轴线上以降低提拉系统的摆动。
    综合评述
    基于碳化硅衬底的宽禁带半导体外延
    开翠红, 王蓉, 杨德仁, 皮孝东
    2021, 50(9):  1780-1795. 
    摘要 ( 368 )   PDF (12300KB) ( 810 )  
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    宽禁带半导体具备禁带宽度大、电子饱和飘移速度高、击穿场强大等优势,是制备高功率密度、高频率、低损耗电子器件的理想材料。碳化硅(SiC)材料具有热导率高、化学稳定性好、耐高温等优点,在SiC衬底上外延宽禁带半导体材料,对充分发挥宽禁带半导体材料的优势,并提升宽禁带半导体电子器件的性能具有重要意义。得益于SiC衬底质量持续提升及成本不断降低,基于SiC衬底的宽禁带半导体电子市场占比呈现逐年增加的态势。在SiC衬底上外延生长高质量的宽禁带半导体材料是提高宽禁带半导体电子器件性能及可靠性的关键瓶颈。本文综述了近年来国内外研究者们在SiC衬底上外延SiC、氮化镓(GaN)、氧化镓(Ga2O3)所取得的研究进展,并展望了SiC衬底上宽禁带半导体外延的发展及应用前景。
    铜锌锡硫硒薄膜太阳电池研究进展
    张道永, 王书荣
    2021, 50(9):  1796-1809. 
    摘要 ( 126 )   PDF (16675KB) ( 127 )  
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    低成本薄膜太阳电池在光伏领域有着很大的发展空间和应用前景,铜锌锡硫硒(Cu2ZnSn(S,Se)4,CZTSSe)薄膜太阳电池具有组成元素丰富、无毒、光吸收系数高、光学带隙合适、理论光电转换效率高和稳定性好等优点,是一种具有大规模应用潜力的新型薄膜太阳电池。本文将对铜锌锡硫硒薄膜太阳电池的发展、制备方法和研究现状进行介绍,并对报道过的铜锌锡硫硒薄膜太阳电池进行对比分析,概括目前铜锌锡硫硒薄膜太阳电池的成果及现状,最后阐明目前铜锌锡硫硒薄膜太阳电池所存在的问题并对其未来进行展望。
    简讯
    奥趋光电实现2英寸氮化铝单晶衬底小批量量产
    2021, 50(9):  1810-1810. 
    摘要 ( 104 )   PDF (3536KB) ( 139 )  
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