| [1] |
吴啸, 赵文, 起文斌, 宋林伟, 李向堃, 姜军, 孔金丞, 王善力. 碲锌镉晶体热退火技术的研究进展[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(6): 912-923. |
| [2] |
陈丹莹, 闫龙, 罗稼昊, 郑振宇, 姜勇, 张凯, 周宁, 廖宸梓, 郭世平. 垂直热壁CVD反应器中C/Si比对SiC高速同质外延生长的影响研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(4): 569-580. |
| [3] |
张献, 岳志昂, 赵恩钦, 魏帅康, 叶文轩, 黄敏怡, 辛美波, 赵洋, 王辉. Ga2O3∶Si薄膜制备及其日盲紫外光电探测器性能研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(3): 462-469. |
| [4] |
陈俊宏, 胡鉴闻, 魏钟鸣. 基于氧化镓微纳米结构的探测器研究进展[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(3): 491-510. |
| [5] |
王月飞, 高冲, 吴哲, 李炳生, 刘益春. 双生长腔互联MOCVD外延生长氧化镓异质结构及其紫外光电探测器件的研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(3): 426-437. |
| [6] |
杨文娟, 卜予哲, 赛青林, 齐红基. 导模法生长氧化镓晶体中的位错缺陷及其分布特点[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(3): 414-419. |
| [7] |
李悌涛, 卢耀平, 陈端阳, 齐红基, 张海忠. 氧化镓同质外延及二维“台阶流”生长研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(2): 219-226. |
| [8] |
严宇超, 王琤, 陆昌程, 刘莹莹, 夏宁, 金竹, 张辉, 杨德仁. 2英寸Fe掺杂高阻β相氧化镓单晶生长及(010)衬底性质研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(2): 197-201. |
| [9] |
杨晓龙, 唐慧丽, 张超逸, 孙鹏, 黄林, 陈龙, 徐军, 刘波. 光学浮区法生长Bi掺杂β-Ga2O3单晶及其光谱性质研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(2): 202-211. |
| [10] |
姚苏昊, 张茂林, 季学强, 杨莉莉, 李山, 郭宇锋, 唐为华. 基于mist CVD的高纯相α-Ga2O3生长与光电响应特性研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(2): 233-243. |
| [11] |
丁子舰, 颜世琪, 徐希凡, 辛倩. 脉冲激光沉积α相氧化镓薄膜及其日盲光电探测器[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(2): 329-336. |
| [12] |
李雄杰, 宁平凡, 陈世澳, 乔思博, 程红娟, 王英民, 牛萍娟. 不同晶面蓝宝石衬底上α-Ga2O3雾化学气相沉积法生长研究[J]. 人工晶体学报, 2025, 54(2): 255-262. |
| [13] |
李阳, 曹昆, 介万奇. 热处理GaSb衬底对近距离升华法制备CdZnTe外延膜的影响[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(10): 1705-1711. |
| [14] |
吴蕊, 胡洋, 唐荣芬, 阳倩, 王序, 吴怡逸, 聂登攀, 王环江. MOCVD生长ZnO薄膜的气相寄生反应路径研究[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(9): 1608-1619. |
| [15] |
钟琼丽, 王绪, 马奎, 杨发顺. Al掺杂对β-Ga2O3薄膜光学性质的影响研究[J]. 人工晶体学报, 2024, 53(8): 1352-1360. |